Technische Universität Dresden

Steckbrief:

Name des Vorhabens:

AWEO - Atomic Layer Deposition (ALD) von Bismut und Eisen enthaltenden Oxidschichten

Zeitraum:

01.07.2025 – 31.12.2027

Förderfähige Gesamtkosten:

297.216 €

EU-Betrag:

178.330 €

Ort:

Dresden

Interventions­kategorie:

012 - Forschungs- und Innovationstätigkeiten, darunter auch Vernetzung, in öffentlichen Forschungszentren, Hochschuleinrichtungen und Kompetenzzentren (industrielle Forschung, experimentelle Entwicklung, Durchführbarkeitsstudien)

Förderrichtlinie:

06580 - Verbundprojektförderung

Fördergegenstand:

16695 - FuE-Verbundprojekt

Spezifisches Ziel:

RSO1.1 - Entwicklung und Ausbau der Forschungs- und Innovationskapazitäten und der Einführung fortschrittlicher Technologien

Zweck und Errungenschaft:

Die Aufgabe des Projektes liegt in der erfolgreichen Abscheidung von Bismut- und Eisenoxidschichten mittels Atomic Layer Deposition (ALD) auf Waferlevel. Die TU Dresden wird hierfür ALD-Prozesse für die Herstellung der Einzelschichten auf großen Substraten entwickeln, charakterisieren und optimieren. Bei der folgenden Kombination der Prozesse zur Herstellung von Bismuteisenoxidschichten steht dann die präzise Kontrolle des Schichtwachstums und der Schichtzusammensetzung im Vordergrund.

Fonds:

EFRE