Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.

Steckbrief:

Name des Vorhabens:

NewLPCVD - Abscheideanlage für photonische und MEMS-Anwendungen

Zeitraum:

28.01.2026 – 30.06.2028

Förderfähige Gesamtkosten:

1.958.000 €

EU-Betrag:

1.174.800 €

Ort:

Chemnitz

Interventions­kategorie:

004 - Investitionen in Anlagen, darunter auch Forschungsanlagen, in öffentlichen Forschungszentren und Hochschuleinrichtungen mit direktem Bezug zu Forschungs- und Innovationstätigkeiten

Förderrichtlinie:

02415 - EFRE/JTF RL Forschung InfraProNet 2021-2027 – Teil EFRE

Fördergegenstand:

2227 - Geräteausstattungen, Forschungsinfrastruktur

Spezifisches Ziel:

RSO1.1 - Entwicklung und Ausbau der Forschungs- und Innovationskapazitäten und der Einführung fortschrittlicher Technologien

Zweck und Errungenschaft:

Das Projekt „NewLPCVD“ fokussiert sich auf die Beschaffung einer modernen Beschichtungsanlage für den Auf- und Ausbau von Kompetenzen in den Bereichen Photonik und mikromechanische Bauelemente. Mit der Anlage steht dem Institut eine verlässliche Technologie zur Herstellung innovativer Sensoren sowie optischer und photonischer Bauelemente zur Verfügung, welche etablierte Technologien und Bauelemente verdrängen und neue Zielmärkte erschließen werden. Durch die Anschaffung der Anlage werden Materialien, wie für Poly-Silicium, amorphes Silicium, und Siliciumnitrid in sehr hoher Schichtqualität auf bis zu 200 mm-Waferdurchmesser nutzbar. Die Schichten eignen sich beispielsweise für Anwendungen im Kommunikationssektor oder in photonischen Schaltkreisen, um Informationsverluste zu minimieren.

Fonds:

EFRE