Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.

Steckbrief:

Name des Vorhabens:

Sputter-Epi - Verbesserung der Anlagentechnik zur Entwicklung der Dünnschicht-Abscheidung mittels Magnetronsputterepitaxie

Zeitraum:

29.04.2026 – 30.06.2028

Förderfähige Gesamtkosten:

937.784 €

EU-Betrag:

562.670 €

Ort:

Dresden

Interventions­kategorie:

004 - Investitionen in Anlagen, darunter auch Forschungsanlagen, in öffentlichen Forschungszentren und Hochschuleinrichtungen mit direktem Bezug zu Forschungs- und Innovationstätigkeiten

Förderrichtlinie:

02415 - EFRE/JTF RL Forschung InfraProNet 2021-2027 – Teil EFRE

Fördergegenstand:

2227 - Geräteausstattungen, Forschungsinfrastruktur

Spezifisches Ziel:

RSO1.1 - Entwicklung und Ausbau der Forschungs- und Innovationskapazitäten und der Einführung fortschrittlicher Technologien

Zweck und Errungenschaft:

Um den enormen Bedarf in Energie-, Mobilitäts- und Kommunikationsanwendungen zu decken, sind leistungsfähige und nachhaltig gefertigte Leistungshalbleiter essenziell. Die am FEP seit 7 Jahren erforschte neue Technologie der Magnetron-Sputter-Epitaxie (MSE) kann dazu beitragen, indem sie einen völlig neuen, disruptiven, aber auch skalierbaren Herstellungsweg eröffnet. Sie bietet das Potenzial, Galliumnitrid (GaN)- basierte Bauelemente deutlich kosteneffizienter im Vergleich zu etablierten Verfahren herzustellen. Durch den Verzicht auf toxische und teure Precursoren mit internationalen Lieferketten, den Betrieb bei niedrigen Temperaturen und die Möglichkeit großer Waferdurchmesser verbindet die Sputterepitaxie hohe Wachstumsraten mit einem geringen CO₂-Fußabdruck. Zur Qualifizierung neuer Ansätze ist ein erweiterter Funktionsumfang bestehender Anlagentechnik am FEP essentiell. Für die anstehenden Entwicklungsaufgaben ist die Integration von Fraunhofer Technologiekomponenten, neuartigen Reaktivgasen, höheren Substratgrößen und -temperaturen, Erneuerung veralteter Vakuumkomponenten, aber auch Kontaminationsfreiheit im Rahmen dieses Antrags angestrebt. Mit diesen Möglichkeiten werden wir weitere mögliche Alleinstellungsmerkmale der Technologie qualifizieren und in Kooperation mit Industriepartnern einer perspektivischen industriellen Nutzung zuführen.

Fonds:

EFRE